Neues Verfahren für billigere Chips

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ASML, ein Hersteller von Lithographiemaschinen für die Immersion in der Chipproduktion, hat seine Technik umgebaut.

Nun soll es mit einer neuartigen Maschine möglich sein, die in der IT benötigten Halbleiter billiger als bisher herzustellen.

Wie Martin van den Brink, Executive Vice President Marketing / Technology bei dem niederländischen Ausrüster, sagte, seien die Kosten nahezu halbiert worden. Er spricht davon, dass sie früher etwa 3,25 Euro pro herkömmlichem Speicherchip ausgemacht hätten, mit dem neuen Verfahren seien es nur noch 1,20 Euro.

Die Maschine ‘1900i’ soll Speicherhalbleiterherstellern eine Produktion von Chips erlauben, deren Schaltkreise nur 40 Nanometer groß sein können. Dafür sorge ein Verfahren, das sich auf die Linsenöffnung beim Produktionsprozess bezieht. Die Einheit NA bestimmt dabei, wie genau der Wafer bearbeitet werden kann, ergo, wie klein die Muster und damit die Leiterbahnen sein können.

Dabei wird mit Wasser als Linse gearbeitet. Dieses kann genau wie eine Linse in der Schärfe verstellt werden, bei der Belichtung der Wafer konnen kleinere Muster aufgearbeitet werden. Die maximal derzeit erreichte Schärfe liegt laut ASML beim Wert, den die neue Maschine beherrscht, bei 1.35 NA. Für höhere Werte, so heißt es, müsste ultraviolettes Licht verwendet werden.